半导体设备

应用案例:HTCC 陶瓷真空封装外壳

面向 MEMS/光通信器件的气密陶瓷封装加工方案(匿名应用案例)。

说明

本页为案例草稿,尚未取得客户授权和项目数据,不对外发布。

方案框架

  • 材料:HTCC 氧化铝
  • 结构:多层共烧、金属化、气密密封
  • 重点:层间对位、烧结变形、密封面质量
  • 检测:尺寸、外观、气密性(按项目要求)

项目挑战

多层共烧陶瓷在烧结过程中存在收缩和翘曲,密封面和层间对位需要控制。

解决方案

从叠层、烧结曲线到金属化和密封面加工进行工艺评估;具体参数待项目确认。

工艺路线

图纸评审 → 材料/层结构评估 → 烧结与加工 → 检测 → 包装

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